真空管式氣氛爐廠家這款CVD系統(tǒng)集管式氣氛爐,多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預(yù)抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器)。
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真空管式氣氛爐廠家性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術(shù),具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡(jiǎn)單易操作等特點(diǎn)。CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。CVD真空管式爐CVD真空管式爐CVD真空管式爐,高溫真空管式爐廠家
高真空管式爐
爐管尺寸外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm
極限溫度1700 ℃
工作溫度800 -1600 ℃
溫度控制器PID自動(dòng)控制 晶閘管(可控硅)輸出功率, 50段可編程控制器
zui快升降溫速率1400℃以下≤10℃/min,1400℃到1600℃≤5℃/min
加熱區(qū)360mm
恒溫區(qū)150mm
溫度精度±1 ℃
電源單相220V,交流50Hz
多通道流量計(jì)控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)量程100,200 ,500,1000SCCM; (以氮?dú)鈽?biāo)定,除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選)
準(zhǔn)確度±1.5%
工作壓差范圍0.01~0.05 MPa
zui大壓力0.02MPa
接頭類型Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)泵體積流量N233 L/S
壓縮比10:11
實(shí)驗(yàn)真空值6.7*10-3Pa
功率消耗140W
啟動(dòng)時(shí)間2min
電源要求:185-265VAC