PlasCalc等離子體監(jiān)測控制儀實(shí)現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量，通過高級過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法，只需3s就可以獲得測量結(jié)果。
Recipe編輯器
Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構(gòu)建及存儲實(shí)驗(yàn)方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監(jiān)測、表面潔度監(jiān)測、等離子體室控制及異常污染、排放監(jiān)測等，能夠快速簡單的構(gòu)建模塊過程控制。
多種工具用于等離子體診斷
隨PlasCalc配置的操作軟件，集成的程式編輯器能夠容易實(shí)現(xiàn)多種數(shù)學(xué)算能?？蛇x的波長發(fā)生器（可以單獨(dú)購買）用于類型確認(rèn)，而波長編輯器可以用于優(yōu)化信噪比。雙窗口界面用于顯示實(shí)際光譜及所有過程控制信息。
PlasCalc等離子體監(jiān)測控制儀技術(shù)參數(shù)
光譜范圍 | 200-1100 nm |
光學(xué)分辨率 | 1.0 nm (FWHM) |
D/A 轉(zhuǎn)換 | 14 bit |
數(shù)字I/O | 8 x TTL |
模擬輸出 | 4 x [0-10V] |
接口 | USB 1.1 |
功耗 | 12 VDC @ 1.25 A |
電源 | 90-240 VAC 50/60 Hz |
尺寸 | 257 mm x 152 mm x 263 mm |
重量 | 5 kg |
特點(diǎn)
- 光學(xué)分辨率1.0nm(FWHM)
- 光譜范圍 200-1100nm
- 快速的建模及存儲實(shí)驗(yàn)方法
