在SUPRA™場(chǎng)發(fā)射場(chǎng)掃描電子顯微鏡基礎(chǔ)上發(fā)展起來的ULTRA 場(chǎng)發(fā)射場(chǎng)掃描電子顯微鏡是用于納米結(jié)構(gòu)分析的電子束成像儀器中，它接收效率高、可以超高分辨率成像。新開發(fā)的能量選擇式背散射電子探測(cè)器（EsB）和角度選擇式背散射電子探測(cè)器（AsB）則代表了的GEMINI®技術(shù)的新發(fā)展。
ULTRA綜合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次電子探測(cè)器、用于清晰的組分襯度的EsB探測(cè)器和用于采集晶體通道信息的AsB探測(cè)器。同步的實(shí)時(shí)成像與信號(hào)混合功能提供了成像能力。
EsB探測(cè)器包含有一個(gè)過濾柵網(wǎng)，通過它可實(shí)現(xiàn)高分辨率背散射電子成像，讓以前無法看見的細(xì)節(jié)歷歷在目。EsB探測(cè)器包含有一個(gè)過濾柵網(wǎng)，通過它可實(shí)現(xiàn)高分辨率背散射電子成像，讓以前無法看見的細(xì)節(jié)歷歷在目。
卡爾.蔡司*的荷電補(bǔ)償功能在使用所有探測(cè)器時(shí)，都可以分析非導(dǎo)電樣品
低加速電壓時(shí)的超高分辨率二次電子和背散射電子成像
用于在納米尺度上實(shí)現(xiàn)組分襯度成像的高效EsB / AsB探測(cè)器
精確控制的超大自動(dòng)優(yōu)中心（eucentric）樣品臺(tái)
背散射電子和二次電子信號(hào)的實(shí)時(shí)成像與混合功能
抑制不導(dǎo)電樣品的荷電效應(yīng)
用于X射線分析和背散射電子衍射（EBSD）應(yīng)用的超穩(wěn)定束流模式
