高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī),氧化鋁水性漿料研磨機(jī),三氧化二鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機(jī)1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3
氧化鋁研磨分散機(jī)的設(shè)備技術(shù)越來(lái)越高，可以生產(chǎn)1微米以下的氧化鋁。納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無(wú)色透明。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該氧化鋁是納米氧化鋁經(jīng)過(guò)層層深加工篩選出來(lái)的氧化鋁，添加到各種丙烯酸樹(shù)脂，聚氨酯樹(shù)脂，環(huán)氧樹(shù)脂，三聚氰胺樹(shù)脂，硅丙乳液等樹(shù)脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以提高樹(shù)脂的硬度，硬度可達(dá)6-8H，*透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，同時(shí)可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。
氧化鋁陶瓷隔膜漿料分散機(jī)可以為氧化鋁粉的生產(chǎn)工業(yè)中產(chǎn)生大量的尾礦和赤泥對(duì)環(huán)境的影響非常大，鋁土礦作為*資源， 其保障程度直接制約著一個(gè)地區(qū)氧化鋁工業(yè)的總量與生存周期。因此，各級(jí)政府和有關(guān)部門(mén)，必須準(zhǔn)確把握氧化鋁工業(yè)的發(fā)展形勢(shì)，資源與環(huán)境制約狀況和基本規(guī)律，按照總量控制的要求，嚴(yán)格控制新建氧化鋁項(xiàng)目，堅(jiān)決制止盲目發(fā)展和低水平重復(fù)建設(shè)，努力實(shí)現(xiàn)氧化鋁工業(yè)發(fā)展與資源充分利用，優(yōu)化生態(tài)環(huán)境相統(tǒng)一。
高純氧化鋁研磨分散機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散乳化機(jī),氧化鋁水性漿料分散機(jī)
設(shè)備參數(shù)
• 連續(xù)分散機(jī)
• 優(yōu)化分散頭 2G, 4M, 6F，8SF
• 可選分散頭
• 內(nèi)表面 Ra 0,8-1,2
• 選項(xiàng):
– 雙層外罩
– 不同的法蘭盤(pán)，例如DIN 11851, DIN 2633 , 三向夾扣, ANSI #150 法蘭盤(pán)
– 不同的選擇材料
– 內(nèi)外表面拋光 Ra 0,8 (pharma)
– 與PLC相同的泵葉片
• 輔助部件:慮網(wǎng), 套管
• 電子控制
99.995%高純氧化鋁系列主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體，高級(jí)陶瓷，PDP熒光粉及一些高性能材料。作為藍(lán)寶石晶體原料，根據(jù)不同的要求可提供粉體，顆粒，塊狀或者柱狀等類型。德國(guó)IKN技術(shù)可以為氧化鋁工業(yè)帶來(lái)重要性的生產(chǎn)發(fā)展
IKN氧化鋁高剪切均質(zhì)乳化機(jī)應(yīng)用于各種物料的超細(xì)粉碎，如農(nóng)藥、醫(yī)藥、炭黑、白炭黑、AC發(fā)泡劑、復(fù)印墨粉、熒光粉、鋯英砂、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鋇、涂料、石墨、塑料盒橡膠用各種填充劑、非金屬礦，以及各種高價(jià)值營(yíng)養(yǎng)品、珍珠粉、花粉等。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對(duì)各種物料的超細(xì)粉碎要求的提高，還會(huì)應(yīng)用到更加廣闊的領(lǐng)域。
高純氧化鋁研磨高剪切研磨機(jī),氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī),氧化鋁水性漿料研磨機(jī),三氧化二鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機(jī)
IKN氧化鋁均質(zhì)分散研磨機(jī)的技術(shù)參數(shù)：
高速研磨機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
從設(shè)備角度分析，影響研磨效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見(jiàn)磨頭結(jié)構(gòu)）
4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，研磨速率取決于以下因素：
磨頭的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 （相對(duì)而言）
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
