CVD/PECVD系列管式電爐等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)是利用輝光放電產生的等離子體中的電子動能去激活氣相的化學反應。該系統(tǒng)由SK2-1200系列真空管式爐、石英反應腔室、射頻電源、多通道混氣系統(tǒng)、真空機組、反應控制系統(tǒng)組成。
CVD/PECVD系列管式電爐設備特點:
1、 利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相;
2、 提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量;
3、 可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率;
4、 能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長
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石英管 | Φ60/80/100mm L1400mm |
加熱區(qū)尺寸 | 440mm |
恒溫區(qū)尺寸 | 200mm |
控溫模式 | 采用人工智能調節(jié)技術,具有PID調節(jié)、自整定功能,并可編制30段升降溫程序。 |
升溫速率 | ≤20℃min |
極限溫度 | ≤1200℃ |
長時間工作溫度 | ≤1150℃ |
表面溫度 | < 60℃(1000℃保溫) |
控溫精度 | ±1℃ |
加熱元件 | 電阻絲(0Cr27Al7Mo2) |
密封及連接方式 | CF KF 真空波紋管 |
質量混氣系統(tǒng)
流量規(guī)格 | 50sccm100sccm200sccm300sccm500sccm(可自選量程) |
調節(jié)閥類型 | 電磁調節(jié)閥 |
控制精度 | ±0.2%F.S |
工作壓差范圍 | (50~300)KPa |
混氣罐尺寸 | Φ80×120mm |
電功率 | AC220V/50HZ/20W |
真空系統(tǒng)參數
低真空配置 | 4L/S 機械泵 電阻真空計 真空波紋管 擋板閥 極限真空度:≤0.1Pa |
高真空配置 | 4L/S 機械泵 300L/S分子泵 復合真空計 真空波紋管 擋板閥 極限真空度:≤1.3×10-4Pa |
射頻電源系統(tǒng)
輸出功率 | 5-300W 5-500W (可選) |
控制模式 | 手動/PLC/PC |
工作頻率 | 13.56MHZ標準正弦波 |
供電電壓 | 單相交流(190V~240V) |
冷卻方式 | 風冷 |
參數:
設備外形尺寸 | 1800mm(長)*600mm(寬)*1390mm(高) |
設備重量 | 215KG |