硼氫化鈉高速膠體磨,高剪切立式膠體磨,管線式膠體磨,高轉(zhuǎn)速膠體磨,不銹鋼膠體磨,膠體磨價(jià)格
IKN膠體磨它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后,粒度達(dá)2~50微米,均質(zhì)度達(dá)90%以上,是超微粒加工的理想設(shè)備。
硼氫化鈉常溫常壓下穩(wěn)定。硼氫化鈉堿性溶液呈棕黃色。zui常用的還原劑之一。對(duì)空氣中的水氣和氧較穩(wěn)定,操作處理容易。適用于工業(yè)規(guī)模, 因?yàn)槿芙庑缘膯栴},通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下,硼氫化鈉無法還原酯,及腈類化合物,但當(dāng)酯的羰基α位有雜原子存在時(shí)例外,可以將酯還原。與硼氫化鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼睫膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對(duì)人體有害。硼氫化鈉應(yīng)干燥保存,使用時(shí)應(yīng)特別小心,操作時(shí)在通風(fēng)櫥中進(jìn)行。應(yīng)貯存在陰涼、干燥的庫(kù)房中。防潮,防震,勿與無機(jī)酸共貯混運(yùn),遠(yuǎn)離熱源和火種及易燃物品。
硼氫化鈉可以在非常溫和的條件下實(shí)現(xiàn)醛酮羰基的還原,生成一級(jí)醇、二級(jí)醇。還原步驟是先把底物溶于溶劑,一般是甲醇或者乙醇,然后用冰浴冷卻,將硼氫化鈉粉末加入混合物攪拌至反應(yīng)*即可。硼氫化鈉是一種中等強(qiáng)度的還原劑,所以在反應(yīng)中表現(xiàn)出良好的化學(xué)選擇性,只還原活潑的醛酮羰基,而不與酯、酰胺作用,一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發(fā)生反應(yīng)。少量硼氫化鈉可以將腈還原成醛,過量則還原成胺
CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì),特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
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研磨頭表面涂料一層及其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理,這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑,研磨頭處形成了一個(gè)具有較強(qiáng)的剪切區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨CM2000的效果更加理想。
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